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20041696

银虫 (小有名气)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 527.3
帖子: 268
在线: 92.7小时
虫号: 799673

[交流] 【交流】磁控溅射中如何避免mask(靶材支架和挡板）被溅射

如题，我们在射频磁控溅射中，在样品中发现靶材固定架和挡板的成分（Fe,Cr），固定架是钢制品，有没有啥办法可以避免，谢谢好心人！

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1楼 2011-01-11 11:25:17

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warlover

铁杆木虫 (初入文坛)

应助: 2 (幼儿园)
金币: 6113.3
帖子: 30
在线: 299.5小时
虫号: 687725

我的靶材是圆形的，直径2英寸左右，增大靶材支架的尺寸使被溅射的靶材面积较小，可以控制等离子体的范围

7楼2011-01-14 08:32:46

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diamondli99

木虫 (正式写手)

应助: 3 (幼儿园)
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帖子: 739
在线: 116.1小时
虫号: 273030

★
20041696(金币+1): 2011-01-13 21:21:34
lpszk(金币+1): 谢谢参与 2011-02-23 06:11:42

个人认为你应该想办法限制一下等离子区的范围。当然这要视具体的设备而言。

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2楼2011-01-12 08:20:47

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warlover

铁杆木虫 (初入文坛)

应助: 2 (幼儿园)
金币: 6113.3
帖子: 30
在线: 299.5小时
虫号: 687725

★
20041696(金币+1): 2011-01-13 21:23:53
lpszk(金币+1): 谢谢参与 2011-02-23 06:12:01

我的磁控溅射通过改变靶材支架可以限制辉光的范围

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3楼2011-01-12 15:22:22

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sailor529

禁虫 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

4楼2011-01-13 09:22:26

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