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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 【交流】磁控溅射中如何避免mask(靶材支架和挡板）被溅射
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20041696

银虫 (小有名气)

[交流] 【交流】磁控溅射中如何避免mask(靶材支架和挡板）被溅射

如题，我们在射频磁控溅射中，在样品中发现靶材固定架和挡板的成分（Fe,Cr），固定架是钢制品，有没有啥办法可以避免，谢谢好心人！
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1楼 2011-01-11 11:25:17
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20041696

银虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by warlover at 2011-01-12 15:22:22:
我的磁控溅射通过改变靶材支架可以限制辉光的范围

我们的靶材是长方形的，不知你是如何改变支架的，能具体指点一下不，跪谢
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6楼2011-01-13 21:22:56
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diamondli99

木虫 (正式写手)
★
20041696(金币+1): 2011-01-13 21:21:34
lpszk(金币+1): 谢谢参与 2011-02-23 06:11:42
个人认为你应该想办法限制一下等离子区的范围。当然这要视具体的设备而言。
赞一下(1人) 回复此楼
2楼2011-01-12 08:20:47
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warlover

铁杆木虫 (初入文坛)
★
20041696(金币+1): 2011-01-13 21:23:53
lpszk(金币+1): 谢谢参与 2011-02-23 06:12:01
我的磁控溅射通过改变靶材支架可以限制辉光的范围
赞一下(1人) 回复此楼
3楼2011-01-12 15:22:22
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sailor529

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
4楼2011-01-13 09:22:26
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