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【交流】肖特基接触
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sunxianwen
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[交流]
【交流】肖特基接触
如果金属的功函大于n型半导体的功函,可以形成肖特基接触。
那么已知金属的功函和n型半导体的带隙,怎么比较二者功函的大小?
文献中看到, Nb:STO 的band gap 为3.3 eV,那么它与Ti(功函为4.33eV)的接触为欧姆接触;与Au(功函为5.1eV)的接触为肖特基接触。
[
Last edited by sunxianwen on 2011-1-8 at 13:06
]
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2011-01-08 10:06:46
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liuy1235
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sunxianwen(金币
+1
):谢谢参与
sunxianwen(金币+1): 2011-01-09 16:56:07
要知道真空静止电子能量E0和半导体的费米能级就可以知道功函数,为二者之差。
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3楼
2011-01-08 17:35:13
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cz.87101
木虫
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★
sunxianwen(金币
+1
):谢谢参与
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2楼
2011-01-08 14:03:35
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liuy1235
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sunxianwen(金币+1): 2011-01-09 16:56:10
也和半导体的类型有关,你可以具体查下刘恩科编的半导体物理学第七章讲得很详细!
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4楼
2011-01-08 17:38:34
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mrzouhao
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sunxianwen(金币
+1
):谢谢参与
夕阳西下(金币+2):奖励一下 2011-01-09 15:41:49
sunxianwen(金币+2): 2011-01-09 16:55:50
肖特基接触是指金属和半导体材料相接触的时候,在界面处半导体的能带弯曲,形成肖特基势垒。势垒的存在才导致了大的界面电阻。与之对应的是欧姆接触,界面处势垒非常小或者是没有接触势垒。
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5楼
2011-01-08 17:41:42
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