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【求助】请教溅射Al和Cu金属膜问题
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lknife
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[交流]
【求助】请教溅射Al和Cu金属膜问题
这是我在载玻片上镀的Cu/Al双层膜的表面,Cu在底层,Al在表层,采用的方法是中频磁控溅射,常温沉积,Ar气环境,气压0.16Pa,溅射电压约500多伏,基片负偏压100VDC,200VAC,表面出现如图所示的突起,似乎重重叠叠多层,请问这个情况的原因是因为污染物掉落导致的还是其他原因?我用其他工艺镀的膜也出现了类似的情况
上图是Cu表面,当时没加偏压,因此表面显得比较粗糙,而且Cu的表面形成了特殊形貌
下图是加了偏压后先镀Cu后镀Al的表面,肉眼观察是比较好的镜面,但SEM下观察仍然是颗粒构成
[
Last edited by lknife on 2011-1-6 at 10:48
]
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2011-01-06 10:45:45
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dongrg218
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★
lknife(金币
+1
):谢谢参与
这个.............
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2楼
2011-02-17 15:16:02
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灌口一舟
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★
lknife(金币
+1
):谢谢参与
你镀膜表面抛光了吧?靶材质量怎么样(纯度、均匀性、致密度等),双靶溅射?能否镀合金膜?Cu-Al合金膜?
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3楼
2011-02-22 14:51:35
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