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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 【请教】硅片的清洗
北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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jzqlover1210

铜虫 (正式写手)
★
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用piranha溶液，之后二次蒸馏水洗，最后氮气吹干
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11楼2010-08-17 15:49:17
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zhongze

金虫 (正式写手)
丙酮乙醇异丙醇各超声两次。
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万重楼外别样风景天！
12楼2010-08-17 20:47:45
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woshiadu

禁虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
本帖内容被屏蔽
13楼2010-09-04 21:01:33
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lizzy1221

木虫 (正式写手)
★
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引用回帖:
Originally posted by plum8736 at 2010-03-24 15:50:01:
RCA标准清洗法是1965年由Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA实验室首创的，并由此而得名。RCA是一种典型的、至今仍为最普遍使用的湿式化学清洗法，该清洗法主要包括以下几种清洗液。
（1）SPM：H2SO4 /H2 ...

可不可以告知一下各清洗液内的配比呀？谢谢了
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14楼2010-09-07 09:59:40
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starling

银虫 (小有名气)
★
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引用回帖:
Originally posted by lizzy1221 at 2010-09-07 09:59:40:

可不可以告知一下各清洗液内的配比呀？谢谢了

我用的是H2SO4/H2O2的体积比7：3
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15楼2010-09-07 10:21:38
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neoyang

铜虫 (小有名气)
★
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氨水 水，双氧水 1：7:1,60度等离子体水中 ，处理10分钟
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16楼2010-09-07 11:00:09
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冷月寒

铁杆木虫 (著名写手)
★
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我们都超十五分钟。
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我就一粗人！
17楼2010-09-07 11:01:57
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yes_zhu
★
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引用回帖:
Originally posted by liuyang12345 at 2010-08-13 13:25:30:
一般在清洗完毕，我们用气体吹干，比较好，没有痕迹。如果是单纯的烘干，好像都会留下痕迹。

支持，支持
18楼2010-09-24 20:06:42
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apolloljy

银虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
1、配制H2SO4：H2O2=4：1溶液，将硅片用石英舟乘载放入，浸煮15分钟。热去离子水清洗，后换冷去离子水清洗。
2、将硅片置于HF溶液（HF︰H2O=1︰1）中浸泡30秒，取出后冲去离子水15分钟。用溶液（NH4OH︰H2O2︰H2O=1︰1︰5）煮沸清洗：先把烧杯中去离子水加热至85℃，倒入相应比例的NH4OH和H2O2溶液，煮15分钟，取出用热去离子水清洗，后换冷去离子水清洗。
3、将硅片置于稀释的HF溶液（HF︰H2O=1︰20）中浸泡20秒，冲热去离子水15分钟。
4、用Ⅱ号溶液（HCl︰H2O2︰H2O=1︰1︰5）煮沸清洗：先把去离子水加热至85℃，倒入相应比例的HCl和H2O2溶液，煮15分钟，取出用热去离子水清洗，后换冷去离子水清洗。

关于吹干，建议提着石英舟用氮气对着吹，这样避免镊子夹引入污染，不过需要一定技巧，也不能心急
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19楼2010-09-24 23:21:26
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lcclcy05

新虫 (初入文坛)
★
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我们这有抛光材料，抛光膜和抛光液，就是用来这些的
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20楼2010-09-25 17:18:53
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