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jiangweijw

铜虫 (小有名气)

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[交流] 【请教】硅片的清洗已有49人参与

我用丙酮，酒精，去离子水依次超声清洗，可硅片吹干后清洗的不干净。请教：带二氧化硅层的硅片应如何清洗才能干净？

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1楼 2010-03-24 15:33:44

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apolloljy

银虫 (小有名气)

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专业: 微/纳机械系统

★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流

1、配制H2SO4：H2O2=4：1溶液，将硅片用石英舟乘载放入，浸煮15分钟。热去离子水清洗，后换冷去离子水清洗。
2、将硅片置于HF溶液（HF︰H2O=1︰1）中浸泡30秒，取出后冲去离子水15分钟。用溶液（NH4OH︰H2O2︰H2O=1︰1︰5）煮沸清洗：先把烧杯中去离子水加热至85℃，倒入相应比例的NH4OH和H2O2溶液，煮15分钟，取出用热去离子水清洗，后换冷去离子水清洗。
3、将硅片置于稀释的HF溶液（HF︰H2O=1︰20）中浸泡20秒，冲热去离子水15分钟。
4、用Ⅱ号溶液（HCl︰H2O2︰H2O=1︰1︰5）煮沸清洗：先把去离子水加热至85℃，倒入相应比例的HCl和H2O2溶液，煮15分钟，取出用热去离子水清洗，后换冷去离子水清洗。

关于吹干，建议提着石英舟用氮气对着吹，这样避免镊子夹引入污染，不过需要一定技巧，也不能心急

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