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二七九二

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻胶工艺问题已有3人参与

光刻胶az4620,匀胶1000rpm得20um厚,软烘85℃40min,重复10次匀胶软烘得到200um厚的胶,曝光60sx10次,显影az400k(1:3稀释-15min+1:4稀释-35min,总共50min),显影用磁力搅拌2000转/分搅拌。第一为什么边边有血红色的胶,好像暗腐蚀但是不太确定。第二,光刻胶底部有粘附不牢,图案不完整现象,不知道是前烘不足还是磁力搅拌转速过快。

光刻胶工艺问题


光刻胶工艺问题-1

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二七九二

新虫 (初入文坛)

2楼2024-12-31 11:39:11
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二七九二

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 二七九二 at 2024-12-31 11:39:11

这是在更高倍数显微镜下观察到的胶面情况
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3楼2024-12-31 11:39:47
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ciompman

铁杆木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
二七九二: 金币+5 2025-01-02 10:57:41
你这个工艺搞的匀胶重复的次数太多了,这样导致不同的加热环节产生的效果是不一样的,由于你的工艺过于复杂,无法通过这么几个实验数据就可以推断出什么原因导致的。建议你换AZ9260光刻胶试试吧。总之,匀胶和烘胶次数太多了,各种不可控,你这个很难获得理想胶型,主要是太厚了!!

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4楼2024-12-31 15:58:27
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ciompman

铁杆木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

也可以考虑用SU8,就是残胶不好去除。
5楼2024-12-31 15:59:33
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二七九二

新虫 (初入文坛)

送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by ciompman at 2024-12-31 15:58:27
你这个工艺搞的匀胶重复的次数太多了,这样导致不同的加热环节产生的效果是不一样的,由于你的工艺过于复杂,无法通过这么几个实验数据就可以推断出什么原因导致的。建议你换AZ9260光刻胶试试吧。总之,匀胶和烘胶次 ...

因为查文献,一般都是用正胶,好像9260的匀胶厚度还更薄(比4620
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6楼2025-01-02 11:00:45
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Andre_W

银虫 (小有名气)

做柱子,还是做孔,可以私聊

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爱一个人,攀一座山,追一个梦
7楼2025-01-03 18:21:18
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doublewei

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

引用回帖:
7楼: Originally posted by Andre_W at 2025-01-03 18:21:18
做柱子,还是做孔,可以私聊

我认为你的胶太厚了,应该用薄的胶做模板,后边用ICP刻蚀的方式,在Si片上直接刻深沟槽。
8楼2025-01-11 22:39:07
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新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

这是用胶做为掩膜吗?就没得用这么厚光刻胶么?用别的hard mask不行吗?SiO2之类的
9楼2025-02-20 21:46:24
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zhaowenhuang

新虫 (小有名气)

这么厚的胶,是用来电镀还是干刻的呢?选择4620是因为对耐刻蚀性能要求很高吗
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10楼2025-04-09 22:53:48
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