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二七九二

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻胶工艺问题 已有3人参与

光刻胶az4620,匀胶1000rpm得20um厚,软烘85℃40min,重复10次匀胶软烘得到200um厚的胶,曝光60sx10次,显影az400k(1:3稀释-15min+1:4稀释-35min,总共50min),显影用磁力搅拌2000转/分搅拌。第一为什么边边有血红色的胶,好像暗腐蚀但是不太确定。第二,光刻胶底部有粘附不牢,图案不完整现象,不知道是前烘不足还是磁力搅拌转速过快。

光刻胶工艺问题


光刻胶工艺问题-1

发自小木虫手机客户端
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doublewei

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

引用回帖:
7楼: Originally posted by Andre_W at 2025-01-03 18:21:18
做柱子,还是做孔,可以私聊

我认为你的胶太厚了,应该用薄的胶做模板,后边用ICP刻蚀的方式,在Si片上直接刻深沟槽。
8楼2025-01-11 22:39:07
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