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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻胶工艺问题
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二七九二

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻胶工艺问题 已有3人参与

光刻胶az4620，匀胶1000rpm得20um厚，软烘85℃40min，重复10次匀胶软烘得到200um厚的胶，曝光60sx10次，显影az400k（1：3稀释-15min+1：4稀释-35min，总共50min），显影用磁力搅拌2000转/分搅拌。第一为什么边边有血红色的胶，好像暗腐蚀但是不太确定。第二，光刻胶底部有粘附不牢，图案不完整现象，不知道是前烘不足还是磁力搅拌转速过快。

光刻胶工艺问题


光刻胶工艺问题-1

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1楼 2024-12-31 11:36:45
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新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

这是用胶做为掩膜吗？就没得用这么厚光刻胶么？用别的hard mask不行吗？SiO2之类的
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9楼2025-02-20 21:46:24
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二七九二

新虫 (初入文坛)
光刻胶工艺问题-2
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2楼2024-12-31 11:39:11
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二七九二

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 二七九二 at 2024-12-31 11:39:11

这是在更高倍数显微镜下观察到的胶面情况
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3楼2024-12-31 11:39:47
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ciompman

铁杆木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
二七九二: 金币+5 2025-01-02 10:57:41
你这个工艺搞的匀胶重复的次数太多了，这样导致不同的加热环节产生的效果是不一样的，由于你的工艺过于复杂，无法通过这么几个实验数据就可以推断出什么原因导致的。建议你换AZ9260光刻胶试试吧。总之，匀胶和烘胶次数太多了，各种不可控，你这个很难获得理想胶型，主要是太厚了！！
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二七九二
4楼2024-12-31 15:58:27
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