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磁控溅射TiN沉积失败 已有2人参与
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用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？ 发自小木虫Android客户端 |
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2楼2021-03-05 00:13:29
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3楼2021-03-05 08:40:17
4楼2021-03-05 09:30:17
5楼2021-03-05 09:30:53
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6楼2021-03-05 22:18:16
7楼2021-03-08 10:52:12
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8楼2021-04-15 22:35:50
caojingpie
木虫 (小有名气)
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9楼2021-04-20 14:10:30
xingxingac
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- 专业: 金属材料表面科学与工程
10楼2021-04-20 15:14:14