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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 综合资源 » 磁控溅射TiN沉积失败
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敖小归

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射TiN沉积失败已有2人参与

用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？

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1楼2021-03-04 23:15:52
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MEMSlee

捐助贵宾 (著名写手)
溅射一般是反应的Ti和氮气反应

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2楼2021-03-05 00:13:29
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091820053

禁虫 (知名作家)
本帖内容被屏蔽
3楼2021-03-05 08:40:17
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敖小归

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by MEMSlee at 2021-03-05 00:13:29
溅射一般是反应的Ti和氮气反应

直接用TiN靶材不可以吗？

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4楼2021-03-05 09:30:17
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敖小归

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 091820053 at 2021-03-05 08:40:17
调试工艺

也尝试调过功率和压强，都没有什么变化，不太清楚是否还有其他因素影响。

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5楼2021-03-05 09:30:53
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091820053

禁虫 (知名作家)
本帖内容被屏蔽
6楼2021-03-05 22:18:16
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野人禾禾

金虫 (正式写手)
TiN靶材什么样子呢？可以发张照片么
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
7楼2021-03-08 10:52:12
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zzkejing

禁虫 (正式写手)
本帖内容被屏蔽
8楼2021-04-15 22:35:50
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caojingpie

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

用TI靶和氮气。TIN维氏硬度都1800以上了你还沉积什么呀
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9楼2021-04-20 14:10:30
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xingxingac

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

头一次听说用射频做氮化钛的，你用金属钛靶加中频做不好，如果只有一个靶的话用脉冲电源做也可以
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10楼2021-04-20 15:14:14
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