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敖小归

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射TiN沉积失败 已有2人参与

用的TiN靶,射频磁控溅射,纯氩气,压强在3—4Pa,功率从50—100W都有尝试。能起辉,辉光紫红色,但是总是沉积不上,硅片上无任何东西,样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下,可能有哪些因素在影响?应该怎么调参数才合适?

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xingxingac

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

头一次听说用射频做氮化钛的,你用金属钛靶加中频做不好,如果只有一个靶的话用脉冲电源做也可以
10楼2021-04-20 15:14:14
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MEMSlee

捐助贵宾 (著名写手)


溅射一般是反应的Ti和氮气反应

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2楼2021-03-05 00:13:29
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091820053

禁虫 (知名作家)

本帖内容被屏蔽

3楼2021-03-05 08:40:17
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敖小归

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by MEMSlee at 2021-03-05 00:13:29
溅射一般是反应的Ti和氮气反应

直接用TiN靶材不可以吗?

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4楼2021-03-05 09:30:17
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