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磁控溅射TiN沉积失败 已有2人参与
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用的TiN靶,射频磁控溅射,纯氩气,压强在3—4Pa,功率从50—100W都有尝试。能起辉,辉光紫红色,但是总是沉积不上,硅片上无任何东西,样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下,可能有哪些因素在影响?应该怎么调参数才合适? 发自小木虫Android客户端 |
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4楼2021-03-05 09:30:17
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