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敖小归

新虫 (初入文坛)

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[求助] 磁控溅射TiN沉积失败已有2人参与

用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？

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1楼2021-03-04 23:15:52

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敖小归

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引用回帖:

2楼: Originally posted by MEMSlee at 2021-03-05 00:13:29
溅射一般是反应的Ti和氮气反应

直接用TiN靶材不可以吗？

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4楼2021-03-05 09:30:17

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查看全部 11 个回答

MEMSlee

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溅射一般是反应的Ti和氮气反应

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2楼2021-03-05 00:13:29

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091820053

禁虫 (知名作家)

本帖内容被屏蔽

3楼2021-03-05 08:40:17

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敖小归

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引用回帖:

3楼: Originally posted by 091820053 at 2021-03-05 08:40:17
调试工艺

也尝试调过功率和压强，都没有什么变化，不太清楚是否还有其他因素影响。

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5楼2021-03-05 09:30:53

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