| 查看: 1917 | 回复: 10 | ||
| 【悬赏金币】回答本帖问题，作者敖小归将赠送您 10 个金币 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
磁控溅射TiN沉积失败已有2人参与
|
||
|
用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？ 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
江苏大学夏杰祥教授课题组——招收光催化领域博士生
已经有0人回复
-
江苏大学夏杰祥教授课题组——招收光催化领域博士生
已经有5人回复
-
冶金与矿业论文润色/翻译怎么收费?
已经有90人回复
-
球形树脂强度测试仪器方法
已经有1人回复
-
求助 hua suan LAMMPS分子动力学：金属_聚合物专题课程的课件，
已经有0人回复
-
26博士申请求助
已经有2人回复
-
酚醛树脂性能测试
已经有1人回复
-
自荐-求博士或科研助理
已经有1人回复
-
香江学者计划2026年度申请启动！港科大李桂君教授课题组
已经有1人回复
-
求博导推荐
已经有0人回复
5楼2021-03-05 09:30:53
2楼2021-03-05 00:13:29
|
本帖内容被屏蔽 |
3楼2021-03-05 08:40:17
4楼2021-03-05 09:30:17