| 查看: 2500 | 回复: 10 | ||
| 【悬赏金币】回答本帖问题，作者敖小归将赠送您 10 个金币 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
磁控溅射TiN沉积失败 已有2人参与
|
||
|
用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？ 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
淄博无机非金属材料测试
已经有0人回复
-
成果系统访问量大，请15分钟后再尝试。由此给您造成的不便，敬请谅解。
已经有19人回复
-
冶金与矿业论文润色/翻译怎么收费?
已经有58人回复
-
085600 321求调剂
已经有1人回复
-
博士招生 | 青岛科技大学（高分子、化学、材料、力学、机电工程、计算机仿真）
已经有30人回复
-
博士招生 | 青岛科技大学（高分子、化学、材料、力学、航天、机电工程、计算机仿真）
已经有16人回复
-
氧化铝粉氧化锆粉ICP测试
已经有5人回复
-
帮助分析一下是否是拒稿重投
已经有3人回复
-
高铝质高强浇注料耐磨性能研究
已经有1人回复
-
文件夹闪关闭
已经有0人回复
5楼2021-03-05 09:30:53
2楼2021-03-05 00:13:29
|
本帖内容被屏蔽 |
3楼2021-03-05 08:40:17
4楼2021-03-05 09:30:17
