| 查看: 2037 | 回复: 10 | ||
| 【悬赏金币】回答本帖问题，作者敖小归将赠送您 10 个金币 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
磁控溅射TiN沉积失败 已有2人参与
|
||
|
用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？ 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
2026申博自荐
已经有7人回复
-
求求2Cr13的激光冲击有限元模拟J-C本构参数
已经有0人回复
-
有机高分子材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有158人回复
-
26届博士申请
已经有2人回复
-
PLLA 微球在生物医学领域的研究与应用
已经有1人回复
-
PLLA 微球的材料特性与制备工艺解析
已经有0人回复
-
医用聚己内酯（PCL）全解析：从两段式降解到组织工程应用
已经有0人回复
-
反相硅胶如何再生？
已经有1人回复
-
上海交大材料学院招26年秋“申请-考核制”生物材料方向普博生1名 (截至4月10日)
已经有5人回复
-
上海交大材料学院招26年秋“申请-考核制”生物材料方向普博生1名 (截至4月10日)
已经有5人回复
-
上海交大材料学院招26年秋“申请-考核制”生物材料方向普博生1名 (截至4月10日)
已经有5人回复
7楼2021-03-08 10:52:12
2楼2021-03-05 00:13:29
|
本帖内容被屏蔽 |
3楼2021-03-05 08:40:17
4楼2021-03-05 09:30:17