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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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偶然556

新虫 (正式写手)

[交流] 求光刻胶的大神 已有9人参与

我是买的SU-8光刻胶干膜，然后把它贴在铜基底上，做一个30μm、深宽比为3.3:1左右的凹槽，一个基底上开了12个凹槽，等间距的。
固化工艺是：
前烘92°，2min；
曝光40s(100μm厚)；
后烘：65°，5min；95°，10min；
但是一直显影失败，显影的的时候那些槽壁会慢慢变弯曲成波浪形，最终全显影掉。试过不同的显影时间都是这个情况。现在不知道什么原因了，求大神帮忙分析分析。
本人和导师都是第一次接触这个完全不懂，出现问题也不知道找谁交流，只能上这来求助了
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1楼 2017-05-28 20:55:28
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偶然556

新虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 科研小菜鸟 at 2017-06-02 09:03:51
你好，控制dose非常重要，你可以先研究不同dose和thin film thickness之间的关系，然后再用那个dose去expose. Development过程中使用的溶剂也非常重要

谢谢，显影液我是用的SU-8配套的，现在不知道是不是因为槽太密集了（槽宽30μm，间距也是30μm，总共12个槽），槽壁太宽，显影的时候导致槽壁容易歪，不知道显影液能不能稀释呢
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4楼2017-06-19 16:55:40
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科研小菜鸟

银虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你好，控制dose非常重要，你可以先研究不同dose和thin film thickness之间的关系，然后再用那个dose去expose. Development过程中使用的溶剂也非常重要
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2楼2017-06-02 09:03:51
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weilingdun

木虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
直接用UV替代即可
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3楼2017-06-02 19:28:19
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科研小菜鸟

银虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
4楼: Originally posted by 偶然556 at 2017-06-19 16:55:40
谢谢，显影液我是用的SU-8配套的，现在不知道是不是因为槽太密集了（槽宽30μm，间距也是30μm，总共12个槽），槽壁太宽，显影的时候导致槽壁容易歪，不知道显影液能不能稀释呢...

做negative photoresist会有这种情况，就是pattern collapse， SU-8可以加工到小于30nm，显影液最好暂时不要调控，可以试试development时间控制，如果太长高分子会溶胀导致上诉情况产生
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5楼2017-06-20 08:53:51
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