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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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偶然556

新虫 (正式写手)

[交流] 求光刻胶的大神 已有9人参与

我是买的SU-8光刻胶干膜,然后把它贴在铜基底上,做一个30μm、深宽比为3.3:1左右的凹槽,一个基底上开了12个凹槽,等间距的。
固化工艺是:
前烘92°,2min;
曝光40s(100μm厚);
后烘:65°,5min;95°,10min;
但是一直显影失败,显影的的时候那些槽壁会慢慢变弯曲成波浪形,最终全显影掉。试过不同的显影时间都是这个情况。现在不知道什么原因了,求大神帮忙分析分析。
本人和导师都是第一次接触这个完全不懂,出现问题也不知道找谁交流,只能上这来求助了
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weilingdun

木虫 (著名写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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3楼2017-06-02 19:28:19
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科研小菜鸟

银虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
你好,控制dose非常重要,你可以先研究不同dose和thin film thickness之间的关系,然后再用那个dose去expose. Development过程中使用的溶剂也非常重要
2楼2017-06-02 09:03:51
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偶然556

新虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 科研小菜鸟 at 2017-06-02 09:03:51
你好,控制dose非常重要,你可以先研究不同dose和thin film thickness之间的关系,然后再用那个dose去expose. Development过程中使用的溶剂也非常重要

谢谢,显影液我是用的SU-8配套的,现在不知道是不是因为槽太密集了(槽宽30μm,间距也是30μm,总共12个槽),槽壁太宽,显影的时候导致槽壁容易歪,不知道显影液能不能稀释呢
4楼2017-06-19 16:55:40
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科研小菜鸟

银虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
4楼: Originally posted by 偶然556 at 2017-06-19 16:55:40
谢谢,显影液我是用的SU-8配套的,现在不知道是不是因为槽太密集了(槽宽30μm,间距也是30μm,总共12个槽),槽壁太宽,显影的时候导致槽壁容易歪,不知道显影液能不能稀释呢...

做negative photoresist会有这种情况,就是pattern collapse, SU-8可以加工到小于30nm,显影液最好暂时不要调控,可以试试development时间控制,如果太长高分子会溶胀导致上诉情况产生
5楼2017-06-20 08:53:51
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