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王倩113251

新虫 (小有名气)

[交流] 如何生长2nm左右的金属膜？

请问熟悉半导体工艺方面的大神，用什么设备能长1-2nm的金属膜（金膜 或者银膜），听说磁控溅射可以，国内哪里可以做，精度度如何？同时这么薄的膜用什么测试仪器能够较为准确的测试？

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1楼 2016-11-02 11:35:52
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李小华

铁杆木虫 (知名作家)
★
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真空蒸镀呀，我几乎隔三差五就做。

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17楼2016-11-04 13:30:57
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普通回帖

kongkong俗

新虫 (小有名气)
★ ★
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王倩113251: 金币+1 2016-11-02 11:44:48
这么薄要保证均匀肯定不能用磁控溅射，应该用ALD或者CVD
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2楼2016-11-02 11:41:00
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王倩113251

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by kongkong俗 at 2016-11-02 11:41:00
这么薄要保证均匀肯定不能用磁控溅射，应该用ALD或者CVD

谢谢

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3楼2016-11-02 11:44:31
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喵喵是只猫

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
这个我们试过，磁控溅射比较难。
最近在试蒸发。
ALD就没几个单位能做金属的，别听他们扯了。
测试的话，用lift off做台阶然后用AFM扫。
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4楼2016-11-02 12:04:15
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wangheng_10

新虫 (著名写手)
★
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2nm太薄了吧，感觉工艺很难实现

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5楼2016-11-02 12:11:00
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sbnfz207

新虫 (小有名气)
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王倩113251: 金币+1 2016-11-02 23:46:26
磁控溅射做2nm 薄膜， 这个非常难控制，还要看是什么金属。误差也比较大。 对于小基片有可能，对于大基片估计比较难。你可以找同济大学试试
1） 你的硅片基底的抛光 要做的非常高 ，估计在几个埃的水平
2）  沉积的速率要非常的慢，同时要束缚等离子和调控

估计银膜 比较难， 金膜是否有可能不太了解 。其他Ti 或铬 或许有可能。

测量方式： 最好的原位测试。 如果你镀完基片，在空气中暴露几分钟，测量误差可能就不止2nm
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6楼2016-11-02 12:12:54
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未成曲_调721

新虫 (小有名气)
★
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你好，我也有需要想在硅片上镀一层金膜，厚度30nm,请问磁控溅射可以做吗？
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7楼2016-11-02 12:15:13
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王倩113251

新虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by wangheng_10 at 2016-11-02 12:11:00
2nm太薄了吧，感觉工艺很难实现

确实不容易呢～感觉应该有那种专门的平台来测的，不知道能不能在这里找到

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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8楼2016-11-02 12:56:33
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东逗豆

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
可以去科学指南针搜搜，发布需求会有人联系你，不清楚可以私信我。
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9楼2016-11-02 14:55:38
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Friend007

银虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
最近在做一台厚度5-20纳米的磁场辅助溅射设备，理论上讲应该可以，实际操作有困难。主要思路，采用磁场辅助的溅射沉积（不是真正的磁控溅射），外加掩膜控制溅射区域。

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10楼2016-11-03 07:14:35
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