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王倩113251

新虫 (小有名气)

[交流] 如何生长2nm左右的金属膜?

请问熟悉半导体工艺方面的大神,用什么设备能长1-2nm的金属膜(金膜 或者银膜),听说磁控溅射可以,国内哪里可以做,精度度如何?同时这么薄的膜用什么测试仪器能够较为准确的测试?

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李小华

铁杆木虫 (知名作家)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
真空蒸镀呀,我几乎隔三差五就做。

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17楼2016-11-04 13:30:57
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普通回帖

kongkong俗

新虫 (小有名气)

★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
王倩113251: 金币+1 2016-11-02 11:44:48
这么薄要保证均匀肯定不能用磁控溅射,应该用ALD或者CVD
2楼2016-11-02 11:41:00
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王倩113251

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by kongkong俗 at 2016-11-02 11:41:00
这么薄要保证均匀肯定不能用磁控溅射,应该用ALD或者CVD

谢谢

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3楼2016-11-02 11:44:31
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喵喵是只猫

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
这个我们试过,磁控溅射比较难。
最近在试蒸发。
ALD就没几个单位能做金属的,别听他们扯了。
测试的话,用lift off做台阶然后用AFM扫。
4楼2016-11-02 12:04:15
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wangheng_10

新虫 (著名写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
2nm太薄了吧,感觉工艺很难实现

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5楼2016-11-02 12:11:00
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sbnfz207

新虫 (小有名气)

★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
王倩113251: 金币+1 2016-11-02 23:46:26
磁控溅射做2nm 薄膜, 这个非常难控制,还要看是什么金属。误差也比较大。 对于小基片有可能,对于大基片估计比较难。你可以找同济大学试试
1) 你的硅片基底的抛光 要做的非常高 ,估计在几个埃的水平
2)  沉积的速率要非常的慢,同时要束缚等离子和调控

估计银膜 比较难, 金膜是否有可能不太了解 。其他Ti 或铬 或许有可能。

测量方式: 最好的原位测试。 如果你镀完基片,在空气中暴露几分钟,测量误差可能就不止2nm
6楼2016-11-02 12:12:54
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未成曲_调721

新虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
你好,我也有需要想在硅片上镀一层金膜,厚度30nm,请问磁控溅射可以做吗?
7楼2016-11-02 12:15:13
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王倩113251

新虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by wangheng_10 at 2016-11-02 12:11:00
2nm太薄了吧,感觉工艺很难实现

确实不容易呢~感觉应该有那种专门的平台来测的,不知道能不能在这里找到

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
8楼2016-11-02 12:56:33
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东逗豆

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
可以去科学指南针搜搜,发布需求会有人联系你,不清楚可以私信我。
9楼2016-11-02 14:55:38
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Friend007

银虫 (知名作家)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
最近在做一台厚度5-20纳米的磁场辅助溅射设备,理论上讲应该可以,实际操作有困难。主要思路,采用磁场辅助的溅射沉积(不是真正的磁控溅射),外加掩膜控制溅射区域。

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10楼2016-11-03 07:14:35
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