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净慧婍兴

铁杆木虫 (小有名气)

[求助] 求助关于AlN薄膜 已有4人参与

因为实验需要,想制备一层AlN薄膜,要求 002 取向,用作压电。基片是100的抛光Si,还有110的抛光Si,都是N型掺杂。
采用磁控溅射制备:Al靶+N2和Ar气体。试过直流溅射和射频溅射,参数都调节了。就是做不成来 002 取向的AlN。
按理说AlN应该很好做。设备是沈科仪的,真空度差不多是 7.0*10-4。

求各位大神指教啊。小弟着急。
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薄膜制备与特性

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有今生 有来生 有因果 有轮回
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yncnxsy

金虫 (小有名气)

天行健,君子以自强不息
5楼2015-09-15 22:55:45
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

2楼2015-09-14 21:19:08
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净慧婍兴

铁杆木虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wanghuaxing at 2015-09-14 21:19:08
这个得慢慢调试做实验才能得到,您是哪个高校的

我是北科大的。谢谢您啦。做了很久,还是没有结果。很是着急。哎
有今生 有来生 有因果 有轮回
3楼2015-09-15 07:56:36
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

4楼2015-09-15 22:02:34
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