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lfooo木虫 (正式写手)
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透射EBSD（TKD）和传统EBSD在分析织构上的差别。 已有3人参与
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| 请问利用透射EBSD得到的扫描区域的取向信息和传统EBSD得到的取向信息有无差别？织构的分析，或者说在后续软件处理织构时，需不需要修正透射EBSD的角度？或者通过虚拟载物台进行修正？ 我发现两种方法做出来的织构有很大差别，不知道是什么原因。 |
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2楼2015-09-03 09:12:43
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首先，因为统计性弱，所以微区差异大的可能性还是存在的； 其次，我还没有使用过t-EBSD，不知道其坐标几何关系与传统EBSD是否一致，请考证一下； 再者，室温下放置发生回复再结晶也是有可能的，但是从动力学上看恐怕难以出现；而如你所述样品是薄膜金属且是变形态的，在高能电子束照射下加速回复再结晶也是很可能的； 至于是否存在新型再结晶模式，我认为可能性不大，再结晶的研究至今主要还是表现上的差别，本质上不会有新的机制出现。如你所述，立方的组织保持板条形貌，可能是强回复的表现，若是高层错能金属，这种可能性很大。不知道你设置的扫描步幅多大？看看此区域的亚晶界分布多少？同时再次考证扫描区域面积有多大？ |
8楼2015-09-05 22:40:37
lfooo
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镍层错r能大约125，一般认为是高层错能金属，但是归一化的层错能（r/Gb）与铜相近，而且退火容易形成孪晶，这点与典型的高层错能Al截然不同。 不知道孟老师说的强回复是怎样的过程，是否是晶内大量位错交滑移回复，在界面处的位错攀移回复掉了呢？ 这种情况会带来取向的转变吗？ 我记得一般认为回复过程不影响组织的取向变化的吧。是否由于大变形的样品中有很高密度的缺陷，回复的作用表现的异常明显，造成位错重组重排的绝对量非常大，而造成了晶粒之间的转动使得取向发生变化呢？ t-EBSD的步长非常小，我用的5nm和10nm的做的。扫描区域面积10μm X 6 μm ， 加速电压30kV。 组织非常典型的lamellar structure。板条内几乎没有亚晶界，大角度晶界分数>70%。 |
9楼2015-09-06 10:07:07
lfooo
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3楼2015-09-03 12:24:32
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4楼2015-09-03 22:48:16
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5楼2015-09-04 10:36:05
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6楼2015-09-04 16:43:45
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恩 透射EBSD样品与传统EBSD样品均是取自轧板的（RD-ND）面，即法线方向为TD的那个面，这样可以很好地表征片层结构。 因为组织非常细，大变形引入的畸变很大，传统EBSD的标定率很低，透射的效果比较好，但是两者得到的取向信息差的也太多了。传统EBSD我选取的范围还是蛮大的，应该是具有统计性的，只是标定率（<40%），对于织构分析应该也够了。但是形貌和晶界特征分析就不可以了。对于透射EBSD的组织很漂亮（标定率>70%），我做的两个区域的扫描，微观织构和传统EBSD相差很大（IPF image 一片飘红——立方）。我仔细看了下传统ebsd的区域，有部分的确可能是立方取向的晶粒多点，那不会这么巧，我透射选的正好是立方取向晶粒多的区域吧。。。。 还有没有一种可能，因为透射样品是foil的。很薄，双喷做的样，组织畸变非常大，加之表面积又非常大，能量很高，导致在室温下放置过程中发生了“再结晶”（应力驱动的板条转动）。而这种再结晶（或者叫restoration）又不同于传统的再结晶，因为从形貌上看，没有形核和长大的现象，依然是板条组织。不知道孟老师怎么看这个问题，会不会是真的有新的机制的开动，而不是技术上的问题呢？ |
7楼2015-09-05 11:31:50
10楼2019-03-04 23:04:12
