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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 求助关于AZ5214显影的问题
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edwardwitten

铁虫 (初入文坛)

[求助] 求助关于AZ5214显影的问题 已有2人参与

旋涂AZ5214e，大概1.5micron左右的厚度。MF319显影30s吹干后发现表面有干涉条纹，感觉显影没有完全。然后再重新显影发现表面已经没有变化了，台阶仪测试也发现没有变化。这是怎么回事？谢谢大神解答啊！
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1楼 2015-03-14 10:22:55
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vincentwz

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
估计是残留的很薄的一层，如果后续是做刻蚀的话就没关系，刻蚀的时候会很快把它刻掉。如果不希望有就稍微增加曝光量

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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2楼2015-03-15 16:55:10
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edwardwitten

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by vincentwz at 2015-03-15 16:55:10
估计是残留的很薄的一层，如果后续是做刻蚀的话就没关系，刻蚀的时候会很快把它刻掉。如果不希望有就稍微增加曝光量

测量后感觉不是很薄啊，大概是600nm左右。还有，曝光过度的话，会不会出现最终的图案变的很薄的情况？
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3楼2015-03-16 09:20:11
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YLH3211

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

显不掉就是没有曝透，可以适当增加曝光时间或者用等离子去胶机打一下。
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4楼2015-03-25 21:41:06
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