| 查看: 1824 | 回复: 3 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
[求助]
求助关于AZ5214显影的问题已有2人参与
|
|||
| 旋涂AZ5214e，大概1.5micron左右的厚度。MF319显影30s吹干后发现表面有干涉条纹，感觉显影没有完全。然后再重新显影发现表面已经没有变化了，台阶仪测试也发现没有变化。这是怎么回事？谢谢大神解答啊！ |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 遇到的各种问题 |
» 猜你喜欢
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有146人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
有没有使用 AZ 40 XT 光刻胶的同学，交流一下。
已经有18人回复- 大家好，请问大多数正性光刻胶和盐酸反应吗，有哪些光刻胶分辨率能达到30nm
已经有5人回复
- 求助光学曝光工艺，详细的，最后必须很好的剥离
已经有9人回复
- 求助：有没有对光刻胶特别熟悉的，想了解一些光刻胶的信息
已经有7人回复
- AZ胶光刻显影时间不确定。。。求大神
已经有8人回复
- 负胶光刻做倒梯形的程度与曝光时间有什么关系？？
已经有10人回复
- 询问大家做lift-off都用什么胶？
已经有15人回复
4楼2015-03-25 21:41:06
vincentwz
铁杆木虫 (著名写手)
- 应助: 70 (初中生)
- 金币: 14720.7
- 散金: 1899
- 红花: 4
- 帖子: 1652
- 在线: 1292.8小时
- 虫号: 645650
- 注册: 2008-11-04
- 专业: 物理电子学
2楼2015-03-15 16:55:10
3楼2015-03-16 09:20:11