| 查看: 2601 | 回复: 11 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
SU8-2000.5电子束曝光边缘粗糙，结构之间有交联 已有3人参与
|
||
|
实验室购买的是MicroChem公司SU8-2002光刻胶，用该公司提供的稀释剂将光刻胶稀释一倍，浓度与SU8-2000.5一致。 电子束曝光条件：电压50kV，电流30pA Written field 300um/10000dot 转速4000r 60s 前烘 65度1min，95度1min 显影前 65度1min，95度1min 显影60s，IPA清洗30s 具体曝光效果如下图所示。 曝光图形周期600nm, 柱子直径300nm-450nm。 请问图形边缘参差不齐、还有就是柱子之间交联的原因是什么呢？改进工艺条件应该从何处着手？  1,8.Y160kX50.0kV.jpg  2,7.Y160kX50.0kV.jpg  3.Y160kX50.0kV.jpg |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有260人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 如何旋涂400nm厚的光刻胶SU.8-2000.5
已经有1人回复
- Phil S. Baran1997-2012年的文章汇总
已经有140人回复
- Granular calcium carbide prodn. - by granulating fused
已经有3人回复
3楼2015-01-22 19:19:28
5楼2015-01-24 13:29:43
7楼2015-01-30 08:55:46