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汕头大学海洋科学接受调剂
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chemney

新虫 (初入文坛)

[求助] SU8-2000.5电子束曝光边缘粗糙，结构之间有交联 已有3人参与

实验室购买的是MicroChem公司SU8-2002光刻胶，用该公司提供的稀释剂将光刻胶稀释一倍，浓度与SU8-2000.5一致。
电子束曝光条件：电压50kV，电流30pA    Written field 300um/10000dot
                           转速4000r  60s
                           前烘 65度1min，95度1min
                           显影前  65度1min，95度1min
                           显影60s，IPA清洗30s
具体曝光效果如下图所示。
曝光图形周期600nm, 柱子直径300nm-450nm。
请问图形边缘参差不齐、还有就是柱子之间交联的原因是什么呢？改进工艺条件应该从何处着手？

SU8-2000.5电子束曝光边缘粗糙，结构之间有交联
1,8.Y160kX50.0kV.jpg


SU8-2000.5电子束曝光边缘粗糙，结构之间有交联-1
2,7.Y160kX50.0kV.jpg


SU8-2000.5电子束曝光边缘粗糙，结构之间有交联-2
3.Y160kX50.0kV.jpg
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1楼 2015-01-22 10:49:02
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chemney

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by exciting73 at 2015-01-22 16:07:08
SU-8胶还可以电子束曝光啊？

文献中有报道
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3楼2015-01-22 19:19:28
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
SU-8胶还可以电子束曝光啊？
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2楼2015-01-22 16:07:08
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xiaoyueriyue

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
chemney: 金币+20, ★有帮助 2015-01-24 13:29:39
对SU8胶了解不多，但看SEM图形，应该是曝光和显影时间控制的问题，柱子的边缘不齐整和有胶交联现象有可能是曝光时间或者强度过大的原因，使得胶在显影过程中无法完全被去除，留下胶的残余。建议降低曝光强度，另外，选择性地延长一下显影和清洗的时间试试。
赞一下(1人) 回复此楼
4楼2015-01-24 08:17:57
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chemney

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by xiaoyueriyue at 2015-01-24 08:17:57
对SU8胶了解不多，但看SEM图形，应该是曝光和显影时间控制的问题，柱子的边缘不齐整和有胶交联现象有可能是曝光时间或者强度过大的原因，使得胶在显影过程中无法完全被去除，留下胶的残余。建议降低曝光强度，另外， ...

谢谢～
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5楼2015-01-24 13:29:43
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