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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 想在光刻完的半导体上沉积2μm左右厚的Ni/Au薄膜，还有什么办法呢？
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小达达达

银虫 (正式写手)

[求助] 想在光刻完的半导体上沉积2μm左右厚的Ni/Au薄膜，还有什么办法呢？ 已有6人参与

想在光刻完的半导体上沉积2μm左右厚的Ni/Au薄膜，使用溅射的厚度不会很厚（一般200nm左右），还有什么办法呢？
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1楼 2015-01-09 11:24:19
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
2楼2015-01-09 21:41:15
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caoxiafei

专家顾问 (著名写手)

研发工程师-Topcon/HJT电池

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
电化学沉积法，可以试试，在网上直接购买现成Ni的电镀液，Au的溅射就好了。
需要一个恒电位仪，或电化学工作站，3电极体系的
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3楼2015-01-12 08:48:41
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巴巴罗萨

铁虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

溅射可以中间冷却一下吧。
或者用蒸镀也可以，不过蒸镀的致密性和黏附性不如溅射。
广州索益半导体可以提供蒸镀或者溅射服务的。
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4楼2015-01-12 13:49:05
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小达达达

银虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by caoxiafei at 2015-01-12 08:48:41
电化学沉积法，可以试试，在网上直接购买现成Ni的电镀液，Au的溅射就好了。
需要一个恒电位仪，或电化学工作站，3电极体系的

之前没用电镀做过金属，请教一下：电镀的速率是不是不太好控制啊，随后也可以顺利剥离吗？胶厚一般得多厚呢？

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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5楼2015-01-12 15:56:02
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小达达达

银虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 巴巴罗萨 at 2015-01-12 13:49:05
溅射可以中间冷却一下吧。
或者用蒸镀也可以，不过蒸镀的致密性和黏附性不如溅射。
广州索益半导体可以提供蒸镀或者溅射服务的。

是一步光刻后
实现吗？那样的话沉积厚的金属之后，是不是不容易剥离了呢？

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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6楼2015-01-12 15:57:39
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小达达达

银虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 巴巴罗萨 at 2015-01-12 13:49:05
溅射可以中间冷却一下吧。
或者用蒸镀也可以，不过蒸镀的致密性和黏附性不如溅射。
广州索益半导体可以提供蒸镀或者溅射服务的。

是一步光刻后
实现吗？那样的话沉积厚的金属之后，是不是不容易剥离了呢？

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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7楼2015-01-12 15:58:03
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caoxiafei

专家顾问 (著名写手)

研发工程师-Topcon/HJT电池
引用回帖:
5楼: Originally posted by 小达达达 at 2015-01-12 15:56:02
之前没用电镀做过金属，请教一下：电镀的速率是不是不太好控制啊，随后也可以顺利剥离吗？胶厚一般得多厚呢？
...

速率可以控制的，如果你的电极的体积是已知的情况下，是非常容易控制的；不知道是否容易剥离，冷溶液做的应该结合力不太好！
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8楼2015-01-12 20:24:35
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li2005235

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

这得看你的光刻胶是多厚的，依据情况来用剥离法。你如果想沉积2um厚的金属薄膜，一般情况下光刻胶的厚度至少在3um。其实，我们在用剥离法做图形时，光刻胶的厚度应该在你沉积薄膜厚度的3倍。这样剥离的图形会好很多，尤其是对于线宽比较小的情况。但是，我以前做过光刻胶是1.5um，剥离1um的Ni膜，剥离的效果还是可以的。所以，你可以试一下，尽量让光刻胶的厚度在3um以上。比如用AZ5218一类的，AZ5218光刻胶厚度可以在3um左右，你得试一下，我感觉是可以的。有什么问题可以问我，我对这个有些了解。
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9楼2015-01-27 22:05:58
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中大崔老师

捐助贵宾 (初入文坛)
穿越千年: 屏蔽内容, 违规存档, 本版不支持广告宣传，感谢您的应助，请私下pm楼主相关信息 2015-03-06 17:56:33
本帖内容被屏蔽
10楼2015-03-05 23:32:26
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