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keaning新虫 (初入文坛)
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[求助]
有谁懂电子束曝光问题，指导一下！ 已有3人参与
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电子束曝光是不是这么个过程： 比如原样品是溅射在基底上的薄膜，先在薄膜上涂上光刻胶，然后光刻胶上盖上掩膜版，然后放在电子束下曝光，掩膜版上露出的光刻胶部分由于曝光被去掉，剩下的部分就是想要的基本图案，然后腐蚀掉没有光刻胶的部分，最后再去掉光刻胶是不是就成型了！ 本人菜鸟一枚，也没有实践操作过，但由于需要，急需大神指导相关知识！ |
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3楼2014-11-05 05:59:23
Nordictokyo
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【答案】应助回帖
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keaning: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-11-06 09:54:20
keaning: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-11-06 09:54:20
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根据个人的EBL(Electron Beam Lithography)经验总结如下： 1.直接使用光刻胶 基本process如下， a.在基板上用spin coat均匀涂上一层光刻胶。e.x.SU-8, PMMA等 b.放入EBL设备，定位(alignment)之后，用事先设计好的CAD图形对光刻胶进行照射。 c.光刻胶上受到EB照射的部分发生了化学性质的变化。 d.显影：也就是类似洗照片，把基板放入特定的液体里。这里有两种，positive和negative。前者是被照射部分在液体中溶解掉，后者是没有被照射部分被液体溶解掉。根据使用目的选用。 2.间接使用光刻胶 上述1得到的带有图案的光刻胶继续用于后续的半导体工序，e.x.RIE，从而在基板上形成各种pattern。 |
2楼2014-11-04 17:34:55
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4楼2014-12-26 17:09:53
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5楼2014-12-26 17:10:58
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