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wdliwei

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[交流] 【求助】请问下北京哪里可以做电子束曝光系统（EBL）或者聚焦离子束（FIB）？已有4人参与

想在在硅片上做几条金属沉积带，但是缝隙不超过1微米。

实验卡在这里着实难过，希望了解这方面知识的同学老师帮帮忙，不胜感激。

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1楼 2010-09-15 10:47:47

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perwrinkle

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wdliwei(金币+5):谢谢，只是能具体一点吗？能有联系方式最好。 2010-09-15 17:04:18

其实如果要求没有那么精确的话，1微米左右的紫外光刻就能做
如果一定要EBL或者FIB的话，北京科研学校类的有四个地方吧
中科院物理所，半导体所，微电子所和清华
企业研究院的话我知道的中兴也可以做
其他的就不清楚了。。。

[ Last edited by perwrinkle on 2010-9-15 at 14:52 ]

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2楼2010-09-15 14:51:35

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wdliwei

铁杆木虫 (小有名气)

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非常感谢楼上，但是希望可以具体一点，如有联系方式最好。
要求最好能精确一点，缝隙必须小于1微米。

[ Last edited by wdliwei on 2010-9-15 at 17:10 ]

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3楼2010-09-15 17:09:06

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czzzzz

金虫 (小有名气)

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引用回帖:

2楼: Originally posted by perwrinkle at 2010-09-15 14:51:35
其实如果要求没有那么精确的话，1微米左右的紫外光刻就能做
如果一定要EBL或者FIB的话，北京科研学校类的有四个地方吧
中科院物理所，半导体所，微电子所和清华
企业研究院的话我知道的中兴也可以做
其他的就不 ...

您好！我也在咨询这个问题，感谢您的帮助！
不过您说“中兴也可以做”，我想是无意打错字了吧？您所指的应该是SMIC，中芯国际。中兴通讯好像不做工艺。。。

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4楼2013-06-17 10:49:01

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