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2英寸硅片光刻显影后出现干涉条纹是为什么 已有4人参与
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| 2英寸硅片光刻，正胶，曝光，显影，出现干涉条纹，用的是接触式光刻，曝光时硅片和掩膜板之间干涉条纹出现，这以前也有，正常现象，不影响显影，但是最近发现按以往参数显影后光刻胶有些地方显不掉，有些地方显掉了，呈现出曝光时候的干涉条纹状，加大曝光时间，现象减弱，一直加曝光时间到原来的两倍（由3s变为7s）才能完全ok，请问这是怎么回事？还是光刻机原因？光刻胶，烘胶温度，曝光机辐照功率都已经试过，问题依然。 |
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6楼2016-01-06 20:25:54
spiderman504
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2楼2014-07-02 22:42:29
3楼2014-07-03 10:31:27
yswyx 
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4楼2014-07-04 20:14:06
