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汕头大学海洋科学接受调剂
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simvener

银虫 (小有名气)

[求助] 2英寸硅片光刻显影后出现干涉条纹是为什么 已有4人参与

2英寸硅片光刻,正胶,曝光,显影,出现干涉条纹,用的是接触式光刻,曝光时硅片和掩膜板之间干涉条纹出现,这以前也有,正常现象,不影响显影,但是最近发现按以往参数显影后光刻胶有些地方显不掉,有些地方显掉了,呈现出曝光时候的干涉条纹状,加大曝光时间,现象减弱,一直加曝光时间到原来的两倍(由3s变为7s)才能完全ok,请问这是怎么回事?还是光刻机原因?光刻胶,烘胶温度,曝光机辐照功率都已经试过,问题依然。
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微维11

禁虫 (小有名气)

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5楼2015-10-19 20:00:56
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
1.光刻胶用了多久?可能过期了;
2.温度太高或烘烤时间太长时,有时候就很难显影干净;
3.显影时要不断摇晃拨动片子,有时候你第一遍没显干净,吹干后就很难显影干净了,所以宁可稍微过显,也不能显影不足;
4.光刻板放反时也会有条纹出现;
个人感觉光刻胶的参数一般来说,使用合理的话,参数不会变化太大,可能真的是胶过期了,你不妨先试试加长显影时间,如果还是不行的话,可以考虑换胶。
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
2楼2014-07-02 22:42:29
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simvener

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by spiderman504 at 2014-07-02 22:42:29
1.光刻胶用了多久?可能过期了;
2.温度太高或烘烤时间太长时,有时候就很难显影干净;
3.显影时要不断摇晃拨动片子,有时候你第一遍没显干净,吹干后就很难显影干净了,所以宁可稍微过显,也不能显影不足;
4.光 ...

1,光刻胶有用过一段时间的和最新买的,都试过了;
2,实际上以前温度偏低一点,最近调整了一下,温度合理但还是不行;
3,显影时间足够,一般是在已曝光的光刻胶明显的溶解后再继续显影同样的时间;
4,放反的话条纹就太大了,应该不是这个问题;

曝光时间加倍以后是ok的,虽然加倍以后问题解决了,但是参数突然变化这么大搞不清楚原因,实验的时候还是有点心虚。。。
3楼2014-07-03 10:31:27
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
前烘的时间和温度增加,自然会导致需要的曝光剂量增加。
至于版和片子之间的条纹,有些时候表明片子和版之间的贴合不好,有些时候会导致花边黑边,有些时候会导致曝光不均匀等等。
有可能你以前的曝光剂量就是在光刻胶的下限,当出现外界环境变化,或者设备微小变化后,就导致你的光刻结果不好。而当你提升曝光时间后,回到曝光剂量中值,其他因素的影响就忽略不计了。
最好系统性的重新做一个剂量和分辨率实验。
其实你能曝光出想要的结果就ok了,不用没底,以不影响实验为原则。
4楼2014-07-04 20:14:06
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