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XPS光电子能谱分析之———溅射速度问题
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mametozx
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XPS光电子能谱分析之———溅射速度问题
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大家好,请教一下问题。如题。
由于想去材料SiC表面以下的深度方向的分析,想看看表面下1um深度内的化学成分变化。各位是如何求得溅射SiC的去除率的?
各位用什么 仪器?有什么建议?
谢谢。
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2014-04-02 09:01:17
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2014-04-03 10:25:12
不太知道,标准溅射速率都是以二氧化硅为基础做的,换成别的物质都不是很准,只能拿到一个大概的结果,可以先喷一个然后看扫描断面校准一下
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gxytju2008
at 2014-04-02 11:09:21
不太知道,标准溅射速率都是以二氧化硅为基础做的,换成别的物质都不是很准,只能拿到一个大概的结果,可以先喷一个然后看扫描断面校准一下
既然别的物质不很准,那其他物质深度分析时,如果知道物质所在具体深度呢?另,您说先镀一个膜后做SEM断面观察校准,,,不太理解,。
意思是把这个膜溅射掉,利用厚度与时间 来算溅射速率?但在密闭的溅射环境中,无法知道具体什么 时间 被溅射掉的。这是一个问题。
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2014-04-03 10:28:25
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mametozx
at 2014-04-03 10:28:25
既然别的物质不很准,那其他物质深度分析时,如果知道物质所在具体深度呢?另,您说先镀一个膜后做SEM断面观察校准,,,不太理解,。
意思是把这个膜溅射掉,利用厚度与时间 来算溅射速率?但在密闭的溅射环境中 ...
。。。溅射很长时间以后拿出来做SEM,时间是确定的,厚度可以测出来,准确的话只能这样了,一般情况只定性的话也不需要太准的溅射深度
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2014-04-03 10:30:00
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你们都到哪里去做带深度分析的XPS的?
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君子博学而日参醒乎己。
7楼
2015-02-27 17:26:17
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Originally posted by
dreampursuer
at 2015-02-27 17:26:17
你们都到哪里去做带深度分析的XPS的?
大部分学校的XPS一般都有离子枪附件嗯
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8楼
2015-02-27 21:00:56
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