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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 光电子能谱仪XPS
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wendy_863

新虫 (小有名气)

[交流] 光电子能谱仪XPS 已有2人参与

XPS每分钟可以刻蚀多少纳米？1000纳米的样品深度剖析需要多久？
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靠谱女青年
1楼 2014-03-21 16:25:39
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cmshi

木虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
和材料以及溅射功率都有关。不考虑X射线采集信号、数据分析时间，在3keV下最快要3-4小时。不过一般都是溅射一层分析一层，这样的话还要考虑你感兴趣的元素个数，一般时间都是翻倍甚至更多的。
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天还没有亮，那是太阳在路上。
4楼2014-06-10 17:22:11
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yanbaojun

金虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
这个很难回答，看你的材料了，还有就是仪器的刻蚀参数选择。
建议你用已知厚度的样品，在一定刻蚀条件下进行刻蚀，先把刻蚀速率摸索出来后，再测未知厚度的样品。
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天道酬勤！
2楼2014-06-03 17:44:14
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wendy_863

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yanbaojun at 2014-06-03 17:44:14
这个很难回答，看你的材料了，还有就是仪器的刻蚀参数选择。
建议你用已知厚度的样品，在一定刻蚀条件下进行刻蚀，先把刻蚀速率摸索出来后，再测未知厚度的样品。

多谢！
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靠谱女青年
3楼2014-06-10 13:20:31
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