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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料化学 » 磁控溅射做薄膜掺杂，掺杂浓度特底，前来请教测试方法！
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toowowo

铜虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射做薄膜掺杂，掺杂浓度特底，前来请教测试方法！已有2人参与

磁控溅射做掺杂，把掺杂物混在靶材里溅射，由于做出来的薄膜里掺杂量为0.015%“原子数比”，xps都测不出来。所以特来请教什么测试手段可以解决我的问题。薄膜衬底为石英，薄膜导电性能不好，薄膜厚度为0.3微米左右，无法剥落，请教了！

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1楼2014-03-20 00:23:29
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xjian2010

银虫 (正式写手)
引用回帖:
6楼: Originally posted by 刺客yl at 2014-04-01 14:56:01
XPS测的是键能吧？然后推断物质组成。如果杂质跟膜材料组成不统一规则的键，那就很难测出来吧？...

恩，如果杂质跟膜材料组成不统一规则的键，的确很难测出来
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7楼2014-04-01 21:14:09
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gao901127

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
是不是可以提高掺杂浓度。用xps检测。以此类推，可知道低浓度也能掺杂进去？个人意见

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2楼2014-03-20 08:18:55
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xjian2010

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
XPS 应该是精度最高的吧，但是定量分析也很难。你这种情况EDX估计也不大行，含量太低了。我同意楼上的，设计一个梯度比，增大含量勇EDX 表征，证明你的方法控制含量比较精确。
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3楼2014-03-20 15:55:31
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toowowo

铜虫 (正式写手)
低浓度掺杂和高浓度掺杂表现出了不同的性质，正好是低浓度的掺杂是我们所希望的，所以那样依次类推不太合适吧？

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4楼2014-03-21 12:05:02
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