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toowowo

铜虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射做薄膜掺杂,掺杂浓度特底,前来请教测试方法! 已有2人参与

磁控溅射做掺杂,把掺杂物混在靶材里溅射,由于做出来的薄膜里掺杂量为0.015%“原子数比”,xps都测不出来。所以特来请教什么测试手段可以解决我的问题。薄膜衬底为石英,薄膜导电性能不好,薄膜厚度为0.3微米左右,无法剥落,请教了!

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刺客yl

铁虫 (正式写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by xjian2010 at 2014-03-20 15:55:31
XPS 应该是精度最高的吧,但是定量分析也很难。你这种情况EDX估计也不大行,含量太低了。我同意楼上的,设计一个梯度比,增大含量勇EDX 表征,证明你的方法控制含量比较精确。

XPS测的是键能吧?然后推断物质组成。如果杂质跟膜材料组成不统一规则的键,那就很难测出来吧?
6楼2014-04-01 14:56:01
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gao901127

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
是不是可以提高掺杂浓度。用xps检测。以此类推,可知道低浓度也能掺杂进去?个人意见

[ 发自小木虫客户端 ]
2楼2014-03-20 08:18:55
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xjian2010

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
XPS 应该是精度最高的吧,但是定量分析也很难。你这种情况EDX估计也不大行,含量太低了。我同意楼上的,设计一个梯度比,增大含量勇EDX 表征,证明你的方法控制含量比较精确。
3楼2014-03-20 15:55:31
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toowowo

铜虫 (正式写手)

低浓度掺杂和高浓度掺杂表现出了不同的性质,正好是低浓度的掺杂是我们所希望的,所以那样依次类推不太合适吧?

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
4楼2014-03-21 12:05:02
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