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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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hnwhinder

铁虫 (小有名气)

[交流] 如何获得平整度较高的不同后的的Si上SiO2层? 已有1人参与

大家好,我需要200nm到600nm约20nm左右间隔的Si上SiO2薄膜,去找硅片厂商热氧化是可以,但是每个厚度都需要独立的氧化,而每个厚度需要的不多,所以成本很高。用磁控溅射可以,但是折射率会和热氧化的不太一致,所以暂时不考虑。我准备用BOE,但是不知道平整度如何?请问大家关于BOE腐蚀方面有没有什么建议?谢谢!
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yswyx

专家顾问 (著名写手)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
建议找几个不同厚度的氧化层的硅片,然后分别作腐蚀或者刻蚀。刻蚀会更好,腐蚀的话均匀性还是不好控制。
不同厚度的氧化片,可以找”静静一yi“,她们那里品种多。
2楼2014-03-07 16:03:18
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