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溅射中，如何用等离子轰击清洗基片 已有1人参与
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| 请问高手们，我之前溅射做了一批样品放了有一年了，但是现在需要用他来继续做实验，感觉放那么久表面应该钝化了吧，所以想说用等离子体轰击一下，但是我们组只有磁控溅射仪，搜了一下，说可以把阴阳极的电源接口换一下，这样Ar离子就会轰击基片了，但是不敢乱动仪器。想说，不动电源，而是将基片放到靶材基座上，这样可行吗？会不会对溅射仪造成伤害？谢谢啦 |
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