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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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URHX5454

金虫 (小有名气)

[求助] 溅射中,如何用等离子轰击清洗基片 已有1人参与

请问高手们,我之前溅射做了一批样品放了有一年了,但是现在需要用他来继续做实验,感觉放那么久表面应该钝化了吧,所以想说用等离子体轰击一下,但是我们组只有磁控溅射仪,搜了一下,说可以把阴阳极的电源接口换一下,这样Ar离子就会轰击基片了,但是不敢乱动仪器。想说,不动电源,而是将基片放到靶材基座上,这样可行吗?会不会对溅射仪造成伤害?谢谢啦
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URHX5454

金虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by 陈洁涵 at 2014-04-12 21:36:27
磁控溅射主要是在打在一圈上,中间就打不到了吧?用离子束溅射是不是可以

恩恩,后来考虑用CVD清洗
7楼2014-04-17 22:31:31
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tonylei1990

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★
华丽的飘过: 金币+2, 3q 2014-01-01 23:31:49
建议你还是不要这样做,这样会将你基片打坏的,我曾经就这样做过实验,然后去看了SEM,基材表面打出大小不同的坑
2楼2013-12-09 09:32:07
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URHX5454

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by tonylei1990 at 2013-12-09 09:32:07
建议你还是不要这样做,这样会将你基片打坏的,我曾经就这样做过实验,然后去看了SEM,基材表面打出大小不同的坑

用低功率的也不行?
3楼2013-12-09 13:24:49
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tonylei1990

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by URHX5454 at 2013-12-09 13:24:49
用低功率的也不行?...

对了,你在基片后面放一个靶材,低功率,可能可以
4楼2013-12-09 17:04:22
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