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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 其他交流 » 溅射中，如何用等离子轰击清洗基片
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URHX5454

金虫 (小有名气)

[求助] 溅射中，如何用等离子轰击清洗基片 已有1人参与

请问高手们，我之前溅射做了一批样品放了有一年了，但是现在需要用他来继续做实验，感觉放那么久表面应该钝化了吧，所以想说用等离子体轰击一下，但是我们组只有磁控溅射仪，搜了一下，说可以把阴阳极的电源接口换一下，这样Ar离子就会轰击基片了，但是不敢乱动仪器。想说，不动电源，而是将基片放到靶材基座上，这样可行吗？会不会对溅射仪造成伤害？谢谢啦
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1楼 2013-11-23 13:53:40
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URHX5454

金虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by 陈洁涵 at 2014-04-12 21:36:27
磁控溅射主要是在打在一圈上，中间就打不到了吧？用离子束溅射是不是可以

恩恩，后来考虑用CVD清洗
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7楼2014-04-17 22:31:31
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tonylei1990

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★
华丽的飘过: 金币+2, 3q 2014-01-01 23:31:49
建议你还是不要这样做，这样会将你基片打坏的，我曾经就这样做过实验，然后去看了SEM，基材表面打出大小不同的坑
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2楼2013-12-09 09:32:07
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URHX5454

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by tonylei1990 at 2013-12-09 09:32:07
建议你还是不要这样做，这样会将你基片打坏的，我曾经就这样做过实验，然后去看了SEM，基材表面打出大小不同的坑

用低功率的也不行？
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3楼2013-12-09 13:24:49
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tonylei1990

银虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by URHX5454 at 2013-12-09 13:24:49
用低功率的也不行？...

对了，你在基片后面放一个靶材，低功率，可能可以
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4楼2013-12-09 17:04:22
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