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我在培养晶体的时侯表面老是形成一层膜,溶剂挥发不了晶体长得很慢很小
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the005
铜虫
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我在培养晶体的时侯表面老是形成一层膜,溶剂挥发不了晶体长得很慢很小
我将溶剂加热到快要饱和的时侯让他自然挥发结晶,但是都是从上面形成一层膜,下面的溶剂挥发不了只能形成很小的晶体,生长很慢,有没有这方面有经验的高手指点一下怎么解决这问题?我的溶剂是乙醇。
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the005
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1楼
2013-08-09 21:53:03
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the005
铜虫
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2楼
:
Originally posted by
brilliant
at 2013-08-10 09:36:31
溶剂加热到快要饱和的时侯让他自然挥发结晶,这样降温速度太快,导致过饱和度太大,导致晶体太小。建议降低浓度,加热回流,过滤,然后缓慢挥发,控制过饱和度可得到合适晶体。
建议降低浓度,加热回流,过滤,然后缓慢挥发。这句话的意是停止加热之后用回流管回流到室温之后慢慢挥发? 过滤是怎么理解?
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2013-08-12 12:21:56
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2013-08-26 18:15:39
溶剂加热到快要饱和的时侯让他自然挥发结晶,这样降温速度太快,导致过饱和度太大,导致晶体太小。建议降低浓度,加热回流,过滤,然后缓慢挥发,控制过饱和度可得到合适晶体。
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2楼
2013-08-10 09:36:31
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【答案】应助回帖
回流完了自然降到室温,然后过滤,盖上塑料膜
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5楼
2013-08-12 14:39:00
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彩虹89
新虫
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【答案】应助回帖
我想问下你 你是将溶液加热到多少度了 还有 到了近饱和状态时就停止加热而直接冷却到室温吗?
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生活不是彩排每天都是现场直播
6楼
2013-08-13 10:56:37
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