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leeeru

新虫 (小有名气)

[求助] 有谁能在Si片上采用ALD沉积Fe膜，求合作，给钱的。

大家好啊，我们现在在Si片上已经用电子束蒸发的方法镀了一层Al2O3，现在要在Al2O3上通过ALD的方法沉积一层厚度为0.8nm-1.2nm的Fe膜，不知道哪里ALD沉积Fe膜的工艺成熟，

[ Last edited by kunpeng1782 on 2013-3-12 at 21:48 ]
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1楼 2013-03-11 17:36:53
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leeeru

新虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by yjreagin at 2013-04-08 10:34:34
你好，我想问一下用电子束蒸发的镀一层Al2O3是怎么做到的？直接蒸Al2O3就可以吗？反应温度是多少啊？谢谢

直接加高压，把电子束打上去就可以了，我们没有控制温度，调一下加速电压和束流就行。
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7楼2013-04-08 21:52:58
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ncepuchen

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
既然你们有电子束蒸发设备，还用ALD？电子束应该可以满足厚度的精度要求了
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知识的价值在于为创造想象，为我所用
2楼2013-03-11 19:02:06
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leeeru

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by ncepuchen at 2013-03-11 19:02:06
既然你们有电子束蒸发设备，还用ALD？电子束应该可以满足厚度的精度要求了

电子束的我们已经做了，ALD是准备做其它用处的。
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3楼2013-03-11 19:07:34
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lsx2121

捐助贵宾 (小有名气)
感谢参与，应助指数 +1
本帖内容被屏蔽
4楼2013-03-11 23:05:11
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