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leeeru

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[求助] 有谁能在Si片上采用ALD沉积Fe膜，求合作，给钱的。

大家好啊，我们现在在Si片上已经用电子束蒸发的方法镀了一层Al2O3，现在要在Al2O3上通过ALD的方法沉积一层厚度为0.8nm-1.2nm的Fe膜，不知道哪里ALD沉积Fe膜的工艺成熟，

[ Last edited by kunpeng1782 on 2013-3-12 at 21:48 ]

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1楼 2013-03-11 17:36:53

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lsx2121

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4楼2013-03-11 23:05:11

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ncepuchen

银虫 (正式写手)

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【答案】应助回帖

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既然你们有电子束蒸发设备，还用ALD？电子束应该可以满足厚度的精度要求了

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知识的价值在于为创造想象，为我所用

2楼2013-03-11 19:02:06

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leeeru

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引用回帖:

2楼: Originally posted by ncepuchen at 2013-03-11 19:02:06
既然你们有电子束蒸发设备，还用ALD？电子束应该可以满足厚度的精度要求了

电子束的我们已经做了，ALD是准备做其它用处的。

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3楼2013-03-11 19:07:34

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leeeru

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引用回帖:

4楼: Originally posted by lsx2121 at 2013-03-11 23:05:11
用ALD 的方法做出纯 Fe ，目前世界上好像还没有做出来。其他金属比如Pt 等到时可以做出。可以做出Fe2O3.

如果0.8nm 或1.2nm Fe 是否能连续成膜，还需要考究。请告诉我你需要做的基片有多大？
用磁控溅射做纳 ...

谢谢啊，看来ALD做Fe的还真有点难度

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5楼2013-03-12 08:58:35

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