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leeeru

新虫 (小有名气)

[求助] 有谁能在Si片上采用ALD沉积Fe膜，求合作，给钱的。

大家好啊，我们现在在Si片上已经用电子束蒸发的方法镀了一层Al2O3，现在要在Al2O3上通过ALD的方法沉积一层厚度为0.8nm-1.2nm的Fe膜，不知道哪里ALD沉积Fe膜的工艺成熟，

[ Last edited by kunpeng1782 on 2013-3-12 at 21:48 ]
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1楼 2013-03-11 17:36:53
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leeeru

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by ncepuchen at 2013-03-11 19:02:06
既然你们有电子束蒸发设备，还用ALD？电子束应该可以满足厚度的精度要求了

电子束的我们已经做了，ALD是准备做其它用处的。
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3楼2013-03-11 19:07:34
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ncepuchen

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
既然你们有电子束蒸发设备，还用ALD？电子束应该可以满足厚度的精度要求了
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知识的价值在于为创造想象，为我所用
2楼2013-03-11 19:02:06
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lsx2121

捐助贵宾 (小有名气)
感谢参与，应助指数 +1
本帖内容被屏蔽
4楼2013-03-11 23:05:11
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leeeru

新虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by lsx2121 at 2013-03-11 23:05:11
用ALD 的方法做出纯 Fe ，目前世界上好像还没有做出来。  其他金属比如Pt 等到时可以做出。 可以做出Fe2O3.

如果0.8nm 或1.2nm Fe 是否能连续成膜，还需要考究。请告诉我你需要做的基片有多大？
用磁控溅射做纳 ...

谢谢啊，看来ALD做Fe的还真有点难度
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5楼2013-03-12 08:58:35
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