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【求助】能否用ICP刻蚀把掩膜版图形转移到硅或者GaN上
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想做光子晶体,最终目的是周期排列的小孔,具体是周期大概200nm,小孔直径100nm,六角密排,深100nm。 文献中大家都是把光刻胶上的图形转移到衬底,没有说用掩膜版遮盖,从而把掩膜版图形转移下去的。 我想问:可行不? |
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