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[求助]
【求助】能否用ICP刻蚀把掩膜版图形转移到硅或者GaN上
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想做光子晶体，最终目的是周期排列的小孔，具体是周期大概200nm，小孔直径100nm，六角密排，深100nm。 文献中大家都是把光刻胶上的图形转移到衬底，没有说用掩膜版遮盖，从而把掩膜版图形转移下去的。 我想问：可行不？ |
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yswyx 
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yswyx
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