24小时热门版块排行榜

返回列表

当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

wangxiaozj

木虫 (小有名气)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 2781
帖子: 234
在线: 71.9小时
虫号: 759031

[交流] 关于XPS溅射或者叫刻蚀

我的几个粉末样品，负载型，就是在纯氧化物上负载碱金属盐，样品做了XPS表征，并做了两次刻蚀，15秒和30秒。
有几个疑问：
1.未刻蚀的样品用C1s的284.8eV校正，刻蚀后的样品还是需要用这个数值校正吗？
刻蚀的目的是什么呢？我看了一篇文献说是刻蚀可以将表面的污染去除，这个意思是不是刻蚀后的样品不用校正呢？
2.我做了纯碳酸钾的样品的XPS并刻蚀两次，如果每次都校正，得到的谱峰是偏差0.8eV，若刻蚀的样品不校正则是不偏差的。

怎么解释啊，该按照哪个标准啊，头疼啊，大侠救命啊！！

回复此楼

» 收录本帖的淘帖专辑推荐

纳米源

» 本帖已获得的红花（最新10朵）

zyhou

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:

» 抢金币啦！回帖就可以得到:

查看全部散金贴

1楼 2012-12-29 18:20:56

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

匿名

用户注销 (著名写手)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 690.7
帖子: 1592
在线: 189.5小时
虫号: 0

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖

本帖仅楼主可见

赞一下

13楼2018-04-26 15:57:18

已阅申请C-EPI 回复此楼编辑查看我的主页

查看全部 13 个回答

zyhou

专家顾问 (文坛精英)

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖

送鲜花一朵
pzypdl: 金币+3, 谢谢回帖交流，呵呵 2012-12-29 20:00:21
wangxiaozj: 金币+10, 谢谢！ 2012-12-30 09:05:57

好问题！真的没有认真考虑过！

端详了半天，貌似应该是：如果未刻蚀的样品用C1s的284.8eV校正的，那么刻蚀后的样品还是需要用这个数值校正。因为这个仪器的偏差在这么短的时间内不应该会有太大变化！

刻蚀的目的是让表面清洁，比如可以将某些表面的积碳清除，而使内部的金属、载体暴露出来，看看有没有变化！
Applied Surface Science, Volume 233, Issues 1–4, 30 June 2004, Pages 58-68
Applied Catalysis A: General, Volume 253, Issue 2, 28 October 2003, Pages 381-387

刻蚀的l另外一个目的则是可以将表面的覆盖层剥落，从而使得某些核壳结构的材料中核暴露出来！
Applied Catalysis A: General, Volume 352, Issues 1–2, 15 January 2009, Pages 259-264

赞一下(3人)

回复此楼

2楼2012-12-29 19:41:16

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖