| 查看: 973 | 回复: 4 | ||
[求助]
求助关于XPS溅射掉表面杂质对薄膜成分的影响
|
|
在下投的某杂志文章。中间有一段关于XPS的，我开离子枪溅射了10秒钟打掉表面的杂质，其间开了中和枪，然后测的下面的成分和价态。审稿人意见如下： Ar-ion sputtering of oxides in general results in preferential sputtering, often reducing the oxygen content, changing stoichiometry, and can renders the XPS difficult to interpret. What were the details of the sputtering currents, time, energy and do the authors think that their data regarding oxidation states are reliable? 现在求助一下XPS高手，开了中和枪以后溅射对成分和价态或者化学偏移的影响还会比较大么？我该如何回答。谢谢 |
回复此楼» 猜你喜欢
0703化学调剂
已经有7人回复
-
0854，计算机类招收调剂
已经有6人回复
-
【0703化学调剂】-一志愿华中师范大学-六级475
已经有6人回复
-
0854可跨调剂，一作一项核心论文五项专利，省、国级证书40+数一英一287
已经有4人回复
-
能源材料化学课题组招收硕士研究生8-10名
已经有8人回复
-
0817 化学工程 299分求调剂 有科研经历 有二区文章
已经有3人回复
-
281求调剂（0805）
已经有11人回复
-
299求调剂
已经有5人回复
-
收复试调剂生
已经有3人回复
-
280求调剂
已经有7人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- XPS测试中表面的Li会不会被溅射掉？
已经有3人回复
2楼2012-10-11 22:22:37
3楼2012-10-12 20:40:01
4楼2012-10-15 11:11:31
5楼2012-10-15 12:41:53
