| 查看: 917 | 回复: 4 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
求助关于XPS溅射掉表面杂质对薄膜成分的影响
|
||
|
在下投的某杂志文章。中间有一段关于XPS的，我开离子枪溅射了10秒钟打掉表面的杂质，其间开了中和枪，然后测的下面的成分和价态。审稿人意见如下： Ar-ion sputtering of oxides in general results in preferential sputtering, often reducing the oxygen content, changing stoichiometry, and can renders the XPS difficult to interpret. What were the details of the sputtering currents, time, energy and do the authors think that their data regarding oxidation states are reliable? 现在求助一下XPS高手，开了中和枪以后溅射对成分和价态或者化学偏移的影响还会比较大么？我该如何回答。谢谢 |
回复此楼» 猜你喜欢
职称评审没过，求安慰
已经有41人回复
-
回收溶剂求助
已经有7人回复
-
硝基苯如何除去
已经有3人回复
-
A期刊撤稿
已经有4人回复
-
垃圾破二本职称评审标准
已经有17人回复
-
投稿Elsevier的Neoplasia杂志，到最后选publishing options时页面空白，不能完成投稿
已经有22人回复
-
EST投稿状态问题
已经有7人回复
-
毕业后当辅导员了，天天各种学生超烦
已经有4人回复
-
求助文献
已经有3人回复
-
三无产品还有机会吗
已经有6人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- XPS测试中表面的Li会不会被溅射掉？
已经有3人回复
4楼2012-10-15 11:11:31
2楼2012-10-11 22:22:37
3楼2012-10-12 20:40:01
5楼2012-10-15 12:41:53