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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 分析 » 光谱分析 » 求助关于XPS溅射掉表面杂质对薄膜成分的影响
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ioribest

银虫 (小有名气)

[求助] 求助关于XPS溅射掉表面杂质对薄膜成分的影响

在下投的某杂志文章。中间有一段关于XPS的，我开离子枪溅射了10秒钟打掉表面的杂质，其间开了中和枪，然后测的下面的成分和价态。审稿人意见如下：
Ar-ion sputtering of oxides in general results in preferential sputtering, often reducing the oxygen content, changing stoichiometry, and can renders the XPS difficult to interpret. What were the details of the sputtering currents, time, energy and do the authors think that their data regarding oxidation states are reliable?

现在求助一下XPS高手，开了中和枪以后溅射对成分和价态或者化学偏移的影响还会比较大么？我该如何回答。谢谢
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1楼 2012-10-11 21:36:01
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ioribest

银虫 (小有名气)
那我换成不溅射的数据就ok了，对伐。
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5楼2012-10-15 12:41:53
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l_cjy

银虫 (小有名气)

虫虫

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
ioribest: 金币+3, ★有帮助 2012-10-12 20:40:23
听不到: 金币+1, 感谢您的帮助，欢迎常来分析版 2012-10-15 13:16:38
你的薄膜成分是什么？有些溅射会使元素的化学状态改变的！
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2楼2012-10-11 22:22:37
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ioribest

银虫 (小有名气)
我的是氧化钛和氧化锌两种氧化物的复合薄膜。
谢谢
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3楼2012-10-12 20:40:01
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l_cjy

银虫 (小有名气)

虫虫

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
ioribest: 金币+10, ★★★很有帮助 2012-10-16 10:09:40
引用回帖:
3楼: Originally posted by ioribest at 2012-10-12 20:40:01
我的是氧化钛和氧化锌两种氧化物的复合薄膜。
谢谢

氧化钛经过离子溅射刻蚀会被还原，有很多文献可以查到的！
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4楼2012-10-15 11:11:31
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