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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 表征 » 关于XPS溅射或者叫刻蚀
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wangxiaozj

木虫 (小有名气)

[交流] 关于XPS溅射或者叫刻蚀

我的几个粉末样品，负载型，就是在纯氧化物上负载碱金属盐，样品做了XPS表征，并做了两次刻蚀，15秒和30秒。
有几个疑问：
1.未刻蚀的样品用C1s的284.8eV校正，刻蚀后的样品还是需要用这个数值校正吗？
刻蚀的目的是什么呢？我看了一篇文献说是刻蚀可以将表面的污染去除，这个意思是不是刻蚀后的样品不用校正呢？
2.我做了纯碳酸钾的样品的XPS并刻蚀两次，如果每次都校正，得到的谱峰是偏差0.8eV，若刻蚀的样品不校正则是不偏差的。

怎么解释啊，该按照哪个标准啊，头疼啊，大侠救命啊！！
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1楼 2012-12-29 18:20:56
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