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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 表征 » 关于XPS溅射或者叫刻蚀
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wangxiaozj

木虫 (小有名气)

[交流] 关于XPS溅射或者叫刻蚀

我的几个粉末样品，负载型，就是在纯氧化物上负载碱金属盐，样品做了XPS表征，并做了两次刻蚀，15秒和30秒。
有几个疑问：
1.未刻蚀的样品用C1s的284.8eV校正，刻蚀后的样品还是需要用这个数值校正吗？
刻蚀的目的是什么呢？我看了一篇文献说是刻蚀可以将表面的污染去除，这个意思是不是刻蚀后的样品不用校正呢？
2.我做了纯碳酸钾的样品的XPS并刻蚀两次，如果每次都校正，得到的谱峰是偏差0.8eV，若刻蚀的样品不校正则是不偏差的。

怎么解释啊，该按照哪个标准啊，头疼啊，大侠救命啊！！
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zyhou

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1楼 2012-12-29 18:20:56
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zyhou

专家顾问 (文坛精英)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
10楼: Originally posted by 543418208 at 2016-07-21 15:57:34
老师您好，希望您看到可以给我回复一下，我对自己的两个样品进行XPS表征，都经过Ar刻蚀，我发现两个样品中，A样品的Cu金属峰随着刻蚀会进行正偏移，B样品的Cu金属峰随着刻蚀会进行负偏移，我想知道这种情况属于是正 ...

偏移多少？是否在误差范围内？
你所谓的偏移有没有经过校正？
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11楼2016-07-21 19:55:32
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zyhou

专家顾问 (文坛精英)
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
送鲜花一朵
pzypdl: 金币+3, 谢谢回帖交流，呵呵 2012-12-29 20:00:21
wangxiaozj: 金币+10, 谢谢！ 2012-12-30 09:05:57
好问题！真的没有认真考虑过！

端详了半天，貌似应该是：如果未刻蚀的样品用C1s的284.8eV校正的，那么刻蚀后的样品还是需要用这个数值校正。因为这个仪器的偏差在这么短的时间内不应该会有太大变化！

刻蚀的目的是让表面清洁，比如可以将某些表面的积碳清除，而使内部的金属、载体暴露出来，看看有没有变化！
Applied Surface Science, Volume 233, Issues 1–4, 30 June 2004, Pages 58-68
Applied Catalysis A: General, Volume 253, Issue 2, 28 October 2003, Pages 381-387

刻蚀的l另外一个目的则是可以将表面的覆盖层剥落，从而使得某些核壳结构的材料中核暴露出来！
Applied Catalysis A: General, Volume 352, Issues 1–2, 15 January 2009, Pages 259-264
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2楼2012-12-29 19:41:16
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xieshil

铁杆木虫 (小有名气)
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
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missu001: 金币+2, 感谢回帖 2012-12-30 11:49:45
wangxiaozj: 金币+5 2012-12-31 08:30:42
一般操作上刻蚀前可以使用C校正，而刻蚀后大多数好像使用Ar校正。因为这个时候C已经被剥离，信号会很差。并且很多情况下之后C的信号基本上监测不到的情况下才认为刻蚀的目的达到了，显然这个时候使用C校正不是很准确。
另外如果仅仅考虑前后差别以及峰的移动的话，也可以不做校正。
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3楼2012-12-30 09:31:07
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leiws

至尊木虫 (职业作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
有时候样品会随着刻蚀而在表面发生氧化还原反应...有点难说...检索下这方面的paper吧，应该不少的
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5楼2012-12-30 10:51:16
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