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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 溅射时，晶面取向对薄膜的影响
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aujoniy

木虫 (小有名气)

[交流] 溅射时，晶面取向对薄膜的影响

今天看到一篇文献说溅射时，晶体（靶材）的密排面优先被溅射出来，但是只是概述，没有引文，也没说为什么，所以我想问问大家有没有人知道这个原理的？或者有相关的具体的文献的，能分享下不，感激不尽！
另外，下面是我的一些理解
拿金来说吧，面心立方，密排面为111，按我的理解原则上密排面上原子排列紧密，原子间距为0.5*sqrt(a)，键能大，那么溅射时需要的能量不是更高吗？怎么能优先溅射？
而且想的多了突然又想到键长、键能概念。面心立方中，Au有两种位置，一是边角位置，二是面心位置，那么（边角——边角）和（边角——面心）两者的核间距不一样，那么键能也应该是不一样的了，那么我们平时说的那个键长和键能又是什么？我感觉自己把自己绕进去了。。。。
或者是我哪里理解错了吗？
而且按着这个思路继续发散下去的话，不同位置的Au被轰击出来时的能量就是不一样的，那么沉积的薄膜的性能不同，是这个道理吗？

[ Last edited by aujoniy on 2012-12-3 at 20:25 ]
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1楼 2012-12-02 23:20:39
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Smallpeng

木虫 (正式写手)
★
aujoniy(金币+1): 谢谢参与
你没法说明你的溅射面是哪一个吧？所以说被溅射靶材晶体整体上还是均匀的被轰击
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16楼2012-12-05 20:34:06
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wu1008

金虫 (著名写手)
★
aujoniy(金币+1): 谢谢参与
chemlh: 欢迎积极交流 2012-12-03 07:19:25
你是说，轰击材料的时候，材料不同晶面的溅射速率不一样，还是什么？没有明白你的意思！
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2楼2012-12-03 00:08:20
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钦点木瓜

金虫 (著名写手)
★
aujoniy(金币+1): 谢谢参与
chemlh: 欢迎积极交流 2012-12-04 07:53:30
晶面的形成，一般都是形成能最低的晶面优先形成的。对于密排面，形成能地，所以优先形成。
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5楼2012-12-03 08:39:00
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aujoniy

木虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by wu1008 at 2012-12-03 00:08:20
你是说，轰击材料的时候，材料不同晶面的溅射速率不一样，还是什么？没有明白你的意思！

是轰击材料，不是生成的薄膜，抱歉没说明白

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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10楼2012-12-03 12:59:49
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