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[求助] 求助玻璃表面或者硅片表面磁控溅射一层CeO2的工艺参数

求助,CeO2在玻璃或者硅片上磁控溅射的工艺参数本底真空度,溅射气体成分,溅射气压,溅射功率,建设时间或者时间与厚度的关系。还有后期处理,表面颜色,是否结晶,听说结晶的膜是紫红色的。求大家帮帮忙,有谁了解的,给篇论文,或者直接给参数啊谢了。急用。

[ Last edited by zlywm on 2012-8-7 at 23:41 ]
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