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圣洁十字军

银虫 (初入文坛)

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[求助] 求助旋转磁场圆柱靶材技术的原理

” 旋转式溅射装置是在面对玻璃底板表面的位置呈阵列状排列多个圆筒状溅射靶而制成的。其优点是通过一边旋转圆筒状溅射靶一边溅射，材料能均匀地从溅射靶表面射出。据AMAT介绍，旋转式溅射装置能比采用平板型溅射靶的溅射装置更高效地使用靶材。平板型溅射靶才使用30～40％就不能均匀成膜了，而旋转式用到89％仍能使用。
圆筒状溅射靶的中心部分是空的，此处配备有磁石。溅射时，在旋转溅射靶的同时，朝着旋转方向独立转动磁石，从而改变材料从靶材射出的方向。通过控制圆筒状溅射靶的配置方法及磁石的驱动，可以获得均匀的膜。“资料来自AKT-PiVot 55kV PVD设备介绍。
以上有两点我不是很明白：多个圆筒靶材如何排列；圆筒中的磁石如何改变材料的射出方向。

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